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《GMP》對(duì)生產(chǎn)設(shè)備的一般要求
時(shí)間:2019-11-26
GMP對(duì)設(shè)備的要求除了設(shè)備的設(shè)計(jì)應(yīng)符合生產(chǎn)工藝的要求外,,最重要的原則是設(shè)備應(yīng)能防止交叉污染,,設(shè)備本身不影響產(chǎn)品質(zhì)量,,并便于清潔和維護(hù),,設(shè)備的設(shè)計(jì)和布局能使產(chǎn)生差錯(cuò)的危險(xiǎn)減至最低限度。
1,、生產(chǎn)設(shè)備應(yīng)與所采用的工藝及生產(chǎn)的產(chǎn)品相適應(yīng),,設(shè)備的性能技術(shù)指標(biāo)符合設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn),新設(shè)備安裝后應(yīng)進(jìn)行試車和必要的驗(yàn)證,。
2,、設(shè)備的放置在潔凈室應(yīng)有足夠的空間而不擁擠,不因設(shè)備放置的不合理而易于造成差錯(cuò)的發(fā)生和不利于清潔維修,。
3,、生產(chǎn)無(wú)菌制劑的設(shè)備如大輸液、注射劑,、凍干針劑等灌封設(shè)備最好本身具有層流凈化裝置,,易于達(dá)到潔凈度要求,能在最大程度上避免微生物及塵埃顆粒的污染,。對(duì)于固體制劑中的片劑、膠囊劑,、顆粒劑等生產(chǎn)過(guò)程中粉塵的處置和防止交叉污染是十分突出和困難的問題,,除了盡可能使用密閉操作系統(tǒng)外,,如粉碎、稱量,、混合,、過(guò)篩、烘干,、整粒等制粒生產(chǎn)設(shè)備應(yīng)合理的設(shè)計(jì)塵器過(guò)濾系統(tǒng),,既克服交叉污染又能最大限度的減少投資和運(yùn)行成本。
4,、防止交叉污染的另一重要措施是設(shè)備應(yīng)易清洗,、某些部分能夠拆卸。設(shè)備的清洗是所有的GMP都作為重要的規(guī)定之一,。設(shè)備清洗應(yīng)制定包括清洗方法,、清潔劑、消毒劑,、清洗后的檢查,、清洗周期等內(nèi)容的清潔規(guī)程。對(duì)于生產(chǎn)中所用的容器,,使用后應(yīng)立即清洗,,也應(yīng)制訂清潔規(guī)程,對(duì)設(shè)備的清洗應(yīng)有記錄,。
5,、設(shè)備與其加工的產(chǎn)品直接接觸部位及設(shè)備的表面不應(yīng)與產(chǎn)品發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、合成作用或吸附作用,。
6,、設(shè)備不應(yīng)因密封套泄漏、潤(rùn)滑油滴漏而造成產(chǎn)品的污染,。
7,、洗凈后的設(shè)備、應(yīng)放于潔凈干燥的環(huán)境中,,使用前應(yīng)檢查是否已符合潔凈的要求,。
8、用于生產(chǎn)和檢驗(yàn)的儀器,、儀表,、量器、衡具等的適應(yīng)范圍和精密度應(yīng)有規(guī)定,、定期校正并有記錄,。
9、所有設(shè)備均有使用、清潔狀態(tài)標(biāo)志標(biāo)簽,。
10,、不合格或不使用的設(shè)備不放在生產(chǎn)區(qū)內(nèi)。
11,、設(shè)備應(yīng)有設(shè)備檔案及維修保養(yǎng)記錄,,如有設(shè)備驗(yàn)證還應(yīng)有驗(yàn)證記錄。